感應耦合電漿原子發射光譜法
感應耦合電漿原子發射光譜法最初是被稱作Inductively Coupled Plasma – Atomic Emission Spectrometry(ICP-AES)，但是由於後來ICP-MS的發展(同樣屬是一種原子發射光譜技術)，並且AES也開始專用來稱呼俄歇電子能譜學(Auger Electron Spectroscopy)，因此現在比較普遍縮寫是ICP-OES。
ICP-OES主要為偵測樣品中微量金屬元素，在進行樣品分析前，所有水溶液或固體樣品都需經適當酸消化方法處理。樣品溶液經霧化後，所形成之氣膠(Aerosol)藉由載流氣體輸送至電漿焰炬，經由無線電頻感應耦合電漿加熱，將各待測元素激發。由各激發原子或離子所發射出之光譜線，經由光柵(Grating)分光分解出各特定波長之發射譜線。各譜線強度最後再由光檢器(Photosensitive devices)予以偵測。
ICP-OES可以分析元素週期表中的70多個元素
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High-Resolution Optics |
最高的解析度+最優異的光學性能 「提高分析能力是根本，提高解析度是關鍵」，PQ 9100高解析度ICP-OES的光譜解析度最佳可達0.002 nm@200 nm，是目前市場上解析度最高的ICP-OES。高解析度能顯著提高訊噪比並改善BEC(背景等效濃度)。同時，PQ 9100-Series ICP-OES採用原裝的卡爾‧蔡司光學系統，波長範圍涵蓋160~900 nm，可提供超過43,000條發射光譜，並具有<0.4 pm的波長準確度。
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V Shuttle Torch |
可拆卸式V型梭狀炬管 垂直矩管的設計可防止水平炬管容易產生的鹽分、碳粒的堆積，能提高有機樣品和高鹽樣品的穩定性。其緊湊、可拆卸的梭式設計，加上內部氣體連接設計，完全實現方便的安裝即可使用，提高測量準備度並簡化方法的修改步驟。V Shuttle Torch自動校正功能確保每一次分析的再現性。
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Dual View PLUS |
雙向觀測技術 PQ 9100高解析度ICP-OES採用頂部軸向+側面側向的雙向觀測設計，能滿足不同濃度(ppb~%)的同時測量，保證其靈敏度和檢測極限。同時具備全濃度覆蓋、無需分組測量、無需稀釋等優勢。彈性使用軸向、側向、軸向Plus與側向Plus這四種觀測方式進行測量同一個樣品，實現個個元素濃度範圍不同的測定要求。 PLUS模式自動衰減訊號強度進一步調整每條發射譜線的靈敏度，此功能提高方法的靈活性從而提高分析效率。另外，通過軸向觀測，能捕獲最大光強度，同時採用冷錐氬氣反吹消除尾焰干擾，氬氣對光室和檢測器的持續吹掃還能消除空氣和水分等對紫外光的吸收。
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High-Frequency Generator |
高能量、高穩定的Plasma激發系統 PQ 9100高解析度ICP-OES配備高能量、高穩定的Plasma激發系統，包含自激式、利於能量傳遞的四繞組感應線圈、達40.68MHz頻率、穩定性優於0.1%、高達1700W的功率。
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ICP-OES 感應耦合電漿原子放射光譜儀 │ PlasmaQuant® PQ 9100 Series
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PlasmaQuant 9100 憑藉優異的性能、寬廣的量測濃度範圍和高感度，可以進行複雜基質的樣品，保證取得穩定的分析結果，成為品質管控以及檢驗單位中感應耦合電漿原子放射光譜儀的最高標準。 |
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PlasmaQuant 9100 Elite PlasmaQuant 9100 Elite為市場上最佳解析度的感應耦合電漿原子放射光譜儀。高解析度降低光譜干擾的機會，不必因為光譜干擾而選擇次靈敏度的發射譜線。結合其基質耐受度和高感度，使過去無法想像的分析潛力得以實現。 |
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PlasmaQuant® PQ 9100 Series |
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高能量、高穩定的Plasma激發系統 |
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